Construya patrones ópticos finos en vidrio para máscaras, discos, escalas, retículas y componentes personalizados.
Aquí se realizan la preparación del vidrio, el recubrimiento y la formación del patrón. La escritura láser directa crea las características finas; la inspección comprueba el patrón antes de salir de producción.
Cómo fabricamos
Una ruta de fabricación típica para discos encoder, retículas, escalas y dianas con patrón de cromo. El material de partida y los pasos de proceso se seleccionan para cada plano.
Seleccione, pula y limpie el vidrio según las dimensiones y requisitos de superficie especificados.
Deposite la película de cromo con el espesor y las propiedades ópticas definidos para el producto.
Aplicar una capa uniforme de photoresist adecuada al proceso de patrón.
Hornear el sustrato recubierto para eliminar disolvente y preparar el resist para la exposición.
Use escritura láser directa o exposición con máscara según la ruta del producto.
Revelar el resist expuesto para mostrar el patrón previo al ataque.
Atacar el cromo expuesto para transferir el patrón del resist a la película.
Eliminar el resist restante y limpiar la superficie con patrón.
Inspeccione dimensiones, características del patrón, defectos y condición superficial frente a los criterios acordados.
Equipo de exposición para transferencia de patrón replicado
Esta ruta de exposición es adecuada para el desarrollo y la producción de circuitos integrados de pequeña y mediana escala, dispositivos semiconductores y dispositivos de ondas acústicas de superficie. Combina alineación de doble cara con un sistema neumático, tuberías de vacío y mecánica de precisión para un manejo de exposición repetible.
La dosis de exposición real, el resultado de alineación y la repetibilidad dependen del sustrato, la pila de resist, el artwork, el utillaje y la ventana de proceso acordados para el proyecto.
Los componentes de vidrio fotolitográficos empiezan con un sustrato y un estado de recubrimiento especificados. Los blancos con cromo necesitan una ruta adecuada de preparación de resist; las placas de cromo con photoresist se preparan para el proceso de exposición y revelado acordado.
La misma familia de procesos de patrón puede admitir graticules ópticas, placas de calibración de cámara, marcas fiduciales y patrones de abertura. La planificación del proceso sigue la geometría de las características y las necesidades de inspección del componente seleccionado; los pasos de fabricación y cualquier procesamiento de socio se acuerdan para el proyecto.
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