Formatos de placa personalizados y configuraciones de substrato/coating.
Blancos de fotomáscara a medida según plano
Blanks de fotomáscara a medida según plano. Especifique sustrato de vidrio o sílice fundida, recubrimiento de cromo, fotorresina, dimensiones, espesor y requisitos de inspección.
Un blanco construido en torno a su proceso.
Los blanks de fotomáscara a medida se configuran según material, geometría, recubrimiento y requisitos de proceso de la siguiente etapa de fabricación del patrón.
Selección de productos
Lo que es y lo que hace
Un blanco a medida puede partir de vidrio pulido o sílice fundida e incorporar la capa de cromo, el estado de la fotorresina, los requisitos ópticos, el acabado del borde y los registros de inspección necesarios. Es la opción adecuada cuando un blanco estándar no se ajusta al plano o al proceso de exposición.
Cuándo elegirlo
Elija el estado de suministro según los procesos que realiza internamente: vidrio sin recubrir antes de la deposición, vidrio cromado antes de aplicar la fotorresina o una placa con fotorresina preparada para exposición.
Selección y entrega de productos
Cómo difiere de los productos relacionados
Un blanco personalizado cambia la pila de inicio o el formato; una máscara de fotos personalizada cambia el patrón terminado. Comience con la próxima operación en su proceso para decidir qué producto es necesario.
Qué se puede personalizar
El grado del material, el contorno, el espesor, el área pulida y el acabado del borde definen el sustrato. Las versiones recubiertas permiten especificar una estructura de capas y una preparación de fotorresina adaptadas a la exposición y al grabado posteriores.
Lo que recibes
Se suministra un sustrato sin patrón o un blanco recubierto en el estado de proceso seleccionado. Para obtener una retícula, una pista de encoder o una máscara de exposición terminada se necesita un proceso posterior de formación del patrón. La manipulación, el almacenamiento y los datos de inspección dependen del recubrimiento y del pedido.
Especificaciones e inspección
Configuración del producto
| Tipo de producto | Blanco de fotomáscara específico de la aplicación |
|---|---|
| Inputs | Dibujo, obra de arte, formato de máscara o especificación de procesos |
| Configuración | Substrate, capa de cromo, fotoresista y formato de borde |
| Controles críticos | Dimensiones, flatness, superficie, objetivo óptico y limpieza |
| Entrega | Cantidad de prototipo o repetición con los registros de inspección acordados |
Sustratos de vidrio de gran formato
La planitud de los sustratos grandes se especifica según las dimensiones y el espesor de la placa. Utilice los límites de las configuraciones grandes indicadas; no aplique a todos los tamaños el valor de planitud de un sustrato pequeño de precisión.
| Espesor (mm) | Rango de dimensión de placas (mm) | Placa máxima (μm) |
|---|---|---|
| 3.0 / 4.8 | 228.6 × 228.6 a 508 × 609.6 | ≤70 |
| 3.0 / 4.8 | 609.6 × 609.6 a 700 × 800 | ≤100 |
| 7.8 | 620 × 720 a 700 × 800 | ≤120 |
Especifique las dimensiones de la placa dentro de los rangos indicados, las condiciones de apoyo, el área de medición y la orientación durante la inspección. La especificación debe indicar si la planitud se evalúa antes o después del recubrimiento.
Grados de pinhole de película de cromo por formato de sustrato
Un agujero en esta especificación es un defecto transparente no deseado en la película de cromo. No es una abertura óptica diseñada y no indica un agujero a través del vidrio. Seleccione el formato y el grado de aceptación de revestimiento juntos.
| Grado de aceptación | Tamaños de agujeros rechazados |
|---|---|
| Grado estándar | d ≥5 µm |
| Grado Premium | d ≥1 µm |
Estos umbrales definen los tamaños de defecto que se rechazan. La especificación también debe indicar el número permitido de defectos por debajo del umbral y el área inspeccionada.
| Grado de aceptación | Tamaño de defecto, d | Límite de aceptación |
|---|---|---|
| A | 5 ≤ d < 10 µm | ≤0.01 / cm² |
| A | d ≥ 10 µm | Ninguno permitido |
| B | 5 ≤ d < 10 µm | ≤0.01 / cm² |
| B | 10 ≤ d < 30 µm | ≤0.003 / cm² |
| B | d ≥ 30 µm | Ninguno permitido |
| C | 5 ≤ d < 10 µm | ≤0.01 / cm² |
| C | 10 ≤ d < 50 µm | ≤0.003 / cm² |
| C | d ≥ 50 µm | Ninguno permitido |
El umbral sin defectos tiene prioridad en el límite de cada banda de tamaño. Por ejemplo, el grado B rechaza todos los poros de 30 µm o más. Especifique el área inspeccionada, las exclusiones de bordes y la regla de redondeo de conteo para los límites de densidad basados en el área. Aquí no se asigna ningún valor de aceptación a los poros menores de 5 µm.
Definición de producto
Blancos de fotomáscara a medida según plano
Los blanks de fotomáscara a medida son sustratos sin patrón configurados según un plano aprobado y el proceso posterior de exposición del cliente. Dimensiones no estándar, grado del sustrato, recubrimiento de cromo y grado o espesor opcional de fotorresina se revisan junto con la inspección.
Características del producto
- Configurar vidrio o silica fundida, dimensiones, espesor, condición de superficie y formato de borde alrededor del dibujo.
- Especifique el recubrimiento de cromo, tipo fotoresista, resista el espesor, el objetivo óptico y el embalaje como una configuración controlada.
- Los prototipos y la producción repetida pueden compartir revisión, registro de inspección y sistema de identificación.
Opciones de personalización
| Personalización | Especificación del cliente |
|---|---|
| Material del sustrato | Soda-lime glass / fused silica / otro material acordado |
| Dimensiones de sustrato | Formato y espesor a medida según plano |
| Estado de la superficie | Un lado o doble cara pulida |
| Recubrimiento de cromo | Familia de película, espesor, densidad óptica o reflectividad |
| Fotorresina | Opcional; tipo, polaridad y espesor de destino |
| Requisitos ópticos | Transmisión, reflectividad o densidad óptica |
| Inspección | Dimensiones basadas en el dibujo, defectos, registros de superficie y procesos |
| Cantidad de pedido | Producción de prototipo, lote o repetición |
¿Qué información se necesita para un blanco de fotomáscara a medida?
Envíe la muestra actual de dibujo o referencia con los detalles del proceso a continuación.
- Substrate material and dimensions
- Espesor de vidrio y requisitos de superficie
- Requisitos de recubrimiento de cromo
- Tipo de fotoresista y espesor del objetivo, si es necesario
- Longitud de onda de exposición y proceso de litografía
- Criterios de cantidad e inspección necesarios
- Muestra de dibujo o referencia técnica
Donde se utiliza este producto
Preguntas frecuentes
¿Puedo pedir un blanco según mi propio plano?
Sí. Envíe la revisión del dibujo, sustrato, recubrimiento y requisitos de proceso para su revisión.
¿Se puede suministrar un blanco personalizado sin un estándar fijo?
Sí. El material y el proceso de recubrimiento pueden definirse según la exposición y la transferencia de patrón reales.
¿Qué debería incluir en una investigación?
Indique dimensiones, material, requisitos de cromo o fotorresina, cantidad, aplicación y criterios de aceptación relevantes.
¿Necesito una obra de diseño terminada para ordenar un blanco?
Un pedido de blanks necesita principalmente las especificaciones del sustrato y las capas. Si también requiere el patrón, facilite el diseño, la polaridad y la revisión.
Guías técnicas para este producto
Capacidades de fabricación
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