レーザー描画カスタムフォトマスク

接触露光、近接露光、精密パターン転写用のガラス・合成石英上のカスタムクロムパターン。

マスク材料と露光方法

これらの名称は組み合わせ可能な選択項目を示します。例えば合成石英マスクは接触露光に使用でき、大面積マスクセットの一層としても供給できます。

目的・選択項目	製品の選択肢	選定のポイント
基板	ガラス／合成石英EN	波長と熱特性に合わせて選択します。材料の選択だけで接触式・近接式が決まるわけではありません。
露光方式	接触／近接EN	接触式はギャップを減らし、近接式は直接接触を避けますが回折との兼ね合いが生じます。露光装置とワークに合わせて選びます。
露光範囲	単一フィールド／大面積／繰り返し配列EN	有効露光範囲と基板外形は別の条件です。繰り返しセルは共通の座標系で配置できます。
レイヤー間の関係	単一マスク／位置合わせマスクセットEN	連続する各露光には共通のアライメントマークを持つ別々のマスクを使います。マスクセットは一枚の基板上の多層膜とは異なります。

TL OPTIK はパターンデータ、基板選定、クロム加工をつなぎます。 接触・近接露光装置に合わせて、パターン極性、重要寸法、アライメントマークを確認します。パターンデータとマスク寸法を基に、製造可能な仕様と検査計画を検討します。

フォトマスクは透過部と遮光部からなる図案を保持し、光学露光とパターン転写に使用します。

製品詳細・技術記事は現在英語で提供しています。EN のリンクは英語ページを開きます。