レジスト塗布済みクロム基板

フォトマスク製作とパターン転写に向けた、未パターンのクロム膜付き・レジスト塗布済みガラスブランク。

クロム膜付きブランク

目的・選択項目	製品の選択肢	選定のポイント
レジストを自社で塗布する	クロム膜付きブランクEN	遮光膜は形成済みです。レジストの種類と塗布条件はお客様側で選択できます。
露光工程から開始する	レジスト塗布済みクロム基板EN	描画装置に合わせてレジスト感度と現像条件を選びます。この段階ではパターンは未形成です。
完成したパターンが必要	完成フォトマスク・パターン部品	成膜とパターン転写まで完了した製品が必要な場合は、光学機能に基づいて選択します。

レジスト塗布クロム基板および関連ブランクは、フォトリソグラフィ工程に必要な基板と膜構成を提供します。

製品詳細・技術記事は現在英語で提供しています。EN のリンクは英語ページを開きます。